خرید و دانلود نسخه کامل کتاب Personal APT, Reference guide, NC/CNC programming software
خرید و دانلود نسخه کامل کتاب Personal APT, Reference guide, NC/CNC programming software قیمت اصلی 143,000 تومان بود.قیمت فعلی 68,000 تومان است.
بازگشت به محصولات
خرید و دانلود نسخه کامل کتاب Blueprint Reading for Welders , Eighth Edition
خرید و دانلود نسخه کامل کتاب Blueprint Reading for Welders , Eighth Edition قیمت اصلی 139,000 تومان بود.قیمت فعلی 64,000 تومان است.
📥 ترافیک اینترنت مصرفی جهت دانلود فایل‌ها در الی فایل، به‌صورت نیم‌بها می باشد.
فقط اینقدر👇 دیگه زمان داری با تخفیف بخریش
00روز
14ساعت
57دقیقه
12ثانیه

خرید و دانلود نسخه کامل کتاب Iron distribution in the implanted silicon under the action of high-power pulsed ion and laser beams

قیمت اصلی 139,000 تومان بود.قیمت فعلی 64,000 تومان است.

تعداد فروش: 67





عنوان فارسی

توزیع آهن در سیلیکون کاشته شده تحت تأثیر پرتوهای یون پالسی و لیزر پرقدرت

عنوان اصلی Iron distribution in the implanted silicon under the action of high-power pulsed ion and laser beams
ناشر
نویسنده Bayazitov R., Batalov R., Nurutdinov R., Shustov V., Gaiduk P., Dezsi I., Kotai E.
ISBN
سال نشر
زبان English
تعداد صفحات 5
دسته مهندسی مکانیک
فرمت کتاب pdf – قابل تبدیل به سایر فرمت ها
حجم فایل 160 کیلوبایت
2 آیتم فروخته شده در 55 دقیقه
4 نفر در حال مشاهده این محصول هستند!
توضیحات

آنتونی رابینز میگه : من در 40 سالگی به جایی رسیدم که برای رسیدن بهش 82 سال زمان لازمه و این رو مدیون کتاب خواندن زیاد هستم.

توضیحاتی در مورد کتاب

الزیور ابزار و روش‌های هسته‌ای در تحقیقات فیزیک B 240 (2005) 224-228
نتایج بررسی ترکیب فاز، ریزساختار و توزیع عمق ناخالص در لایه‌های سیلیکونی کاشته‌شده با یون‌های آهن و بازپخت با یون پالسی و پرتوهای لیزر داده شده. داده های پراش اشعه ایکس انتقال فاز FeSi→β-FeSi2 را با افزایش چگالی انرژی پالس نشان می دهد. پس از کاشت یون و درمان های پالسی، لایه های سیلیکون دارای ساختار سلولی مرتبط با حلالیت کم آهن در سیلیکون هستند. بسته به غلظت اتمی آهن، یا جدا شدن ماده ناخالص به سطح یا انتشار به سیلیکون صورت می گیرد. این وابستگی با انتشار سریع آهن در سیلیکون مایع و افزایش ضریب توزیع ناخالص هنگام افزایش غلظت ناخالص توضیح داده می شود. نتایج شبیه‌سازی کامپیوتری به خوبی با داده‌های تجربی در مورد توزیع عمق آهن مطابقت دارد و ضریب تفکیک نزدیک به 1 را در بالاترین غلظت ناخالصی می‌دهد.

نظرات (0)

نقد و بررسی‌ها

هنوز بررسی‌ای ثبت نشده است.

اولین کسی باشید که دیدگاهی می نویسد “خرید و دانلود نسخه کامل کتاب Iron distribution in the implanted silicon under the action of high-power pulsed ion and laser beams”

نشانی ایمیل شما منتشر نخواهد شد. بخش‌های موردنیاز علامت‌گذاری شده‌اند *