خرید و دانلود نسخه کامل کتاب Atomic Layer Deposition: Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applicatons
قیمت اصلی 153,000 تومان بود.78,000 تومانقیمت فعلی 78,000 تومان است.
تعداد فروش: 59
| عنوان فارسی |
رسوب لایه اتمی: اصول، ویژگی ها و کاربردهای نانوتکنولوژی |
|---|---|
| عنوان اصلی | Atomic Layer Deposition: Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applicatons |
| ناشر | |
| نویسنده | Kääriäinen T., Cameron D., Kääriäinen M.-L., Sherman A. |
| ISBN | |
| سال نشر | |
| زبان | English |
| تعداد صفحات | 265 |
| دسته | فناوری نانو |
| فرمت کتاب | pdf – قابل تبدیل به سایر فرمت ها |
| حجم فایل | 3 مگابایت |
آنتونی رابینز میگه : من در 40 سالگی به جایی رسیدم که برای رسیدن بهش 82 سال زمان لازمه و این رو مدیون کتاب خواندن زیاد هستم.
توضیحاتی در مورد کتاب
ویرایش 2. — Wiley, 2013. — 265 p.
از زمانی که اولین نسخه در سال 2008 منتشر شد، رسوب لایه اتمی (ALD) به عنوان یک لایه قدرتمند و گاهی ترجیح داده شده است. تکنولوژی رسوب گذاری ویرایش جدید این تک نگاری پیشگامانه اولین متنی است که موضوع ALD را به طور جامع از منظر عملی بررسی می کند. این برنامه کاربرد ALD در میکروالکترونیک (MEMS) و نانوتکنولوژی را پوشش می دهد. بسیاری از برنامه های کاربردی مهم جدید و در حال ظهور؛ فرآیندهای حرارتی برای رشد ALD لایه های ضخیم نانومتری از نیمه هادی ها، اکسیدها، فلزات و نیتریدها. و تشکیل مواد آلی و هیبرید.
نقد و بررسیها
هنوز بررسیای ثبت نشده است.