خرید و دانلود نسخه کامل کتاب Atomic Layer Deposition for Semiconductors
قیمت اصلی 127,000 تومان بود.52,000 تومانقیمت فعلی 52,000 تومان است.
تعداد فروش: 71
| عنوان فارسی |
رسوب لایه اتمی برای نیمه هادی ها |
|---|---|
| عنوان اصلی | Atomic Layer Deposition for Semiconductors |
| ویرایش | 1 |
| ناشر | Springer US |
| نویسنده | Cheol Seong Hwang, Cha Young Yoo (auth.), Cheol Seong Hwang (eds.) |
| ISBN | 9781461480532, 9781461480549 |
| سال نشر | 2014 |
| زبان | English |
| تعداد صفحات | 265 |
| دسته | فناوری نانو |
| فرمت کتاب | pdf – قابل تبدیل به سایر فرمت ها |
| حجم فایل | 6 مگابایت |
آنتونی رابینز میگه : من در 40 سالگی به جایی رسیدم که برای رسیدن بهش 82 سال زمان لازمه و این رو مدیون کتاب خواندن زیاد هستم.
توضیحاتی در مورد کتاب
این جلد ویرایش شده رسوب لایه اتمی (ALD) را برای همه دستگاه های نیمه هادی مدرن مورد بحث قرار می دهد، از شیمی پایه ALD و مدل سازی فرآیندهای ALD به بخش هایی در ALD برای حافظه ها، دستگاه های منطقی و ماشین ها حرکت می کند. بخش ALD برای حافظه ها هم حافظه های تولید انبوه مانند DRAM و Flash و هم حافظه های در حال ظهور مانند PCRAM و FeRAM را پوشش می دهد. بخش مربوط به ALD برای دستگاههای منطقی، هم فرآیندهای جلویی خط و هم فرآیندهای انتهایی خط را پوشش میدهد. بخش آخر در مورد ALD برای ماشین ها به مجموعه ابزارها و سخت افزار سیستم ها می پردازد. هر فصل تاریخچه، اصول عملیاتی و توضیح کامل فرآیندهای ALD را برای هر دستگاه ارائه می دهد.
نقد و بررسیها
هنوز بررسیای ثبت نشده است.