خرید و دانلود نسخه کامل کتاب Chemical Vapor Deposition: Thermal and Plasma Deposition of Electronic Materials
قیمت اصلی 179,000 تومان بود.104,000 تومانقیمت فعلی 104,000 تومان است.
تعداد فروش: 42
| عنوان فارسی |
رسوب بخار شیمیایی: رسوب حرارتی و پلاسما مواد الکترونیکی |
|---|---|
| عنوان اصلی | Chemical Vapor Deposition: Thermal and Plasma Deposition of Electronic Materials |
| ویرایش | 1 |
| ناشر | Springer US |
| نویسنده | Srinivasan Sivaram (auth.) |
| ISBN | 9781475747539, 9781475747515 |
| سال نشر | 1995 |
| زبان | English |
| تعداد صفحات | 302 |
| دسته | ابزار |
| فرمت کتاب | pdf – قابل تبدیل به سایر فرمت ها |
| حجم فایل | 7 مگابایت |
آنتونی رابینز میگه : من در 40 سالگی به جایی رسیدم که برای رسیدن بهش 82 سال زمان لازمه و این رو مدیون کتاب خواندن زیاد هستم.
توضیحاتی در مورد کتاب
در اوایل سال 1987 من در تلاش بودم تا یک فرآیند تنگستن مبتنی بر CVD را برای اینتل توسعه دهم. در هر مرحله از توسعه، اطلاعاتی که ما جمعآوری میکردیم باید در پرتو نظریهها و فرضیههای کتابها و مقالات در بسیاری از موضوعات غیرمرتبط تحلیل میشد. این منابع به قدری متفاوت بودند که من متوجه شدم هیچ درمان واحدی برای CVD و فرآیندهای فرعی آن وجود ندارد. جالبتر اینکه همکاران من در این صنعت از رشته های بسیاری بودند (یک شیمیدان سطح، یک مهندس مکانیک، یک زمین شناس و یک مهندس برق در گروه من). برای کمک به درک زمینه CVD و بازیکنان آن، برخی از ما گروه کاربران CVD در کالیفرنیای شمالی را در سال 1988 سازماندهی کردیم. ایده نوشتن کتابی در این زمینه در آن زمان به ذهنم خطور کرد. قبلاً افکارم را برای دوره ای که در دانشگاه ایالتی سن خوزه تدریس می کردم سازماندهی کرده بودم. بعداً ون نوستراند موافقت کرد که کتاب من را به عنوان متنی منتشر کند که برای دانشجویان در سطح ارشد / سال اول فارغ التحصیل و برای مهندسان فرآیند در صنعت میکروالکترونیک در نظر گرفته شده است. برای رسوب بخار شیمیایی از سوی دیگر، اصول CVD را در یک سطح اساسی ارائه می کند و در عین حال آنها را با نیازهای صنعت میکروالکترونیک متحد می کند.
نقد و بررسیها
هنوز بررسیای ثبت نشده است.